PlasmaQuant MS 无与伦比的灵敏度可显著提高样品分析效率降低单样品分析成本。专利设计的ICP-MS分析确保在极短的积分时间或大比例稀释的前提下,依然可以获得最低的检出限和恒定的分析速率。这就保证了最大的样品通量、分析结果的长期稳定性及重复性,并显著减少日常维护频率。
最佳检出限
高样品通量
显著降低样品前处理工作量
出色的长期稳定性
低维护
从废水到有机样品直接进样分析,PlasmaQuant MS在不断提升分析性能的前提下将ICP-MS的分析成本降至业内最低。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS等离子体异乎寻常的强劲稳健,轻松应对各种复杂基体。并获得了极低水平的氧化物(<2% CeO+/Ce+)和双电荷(<2% Ba++/Ba+);等离子体射频功率实现业内最宽范围内连续可调(300-1600 W),可根据实际应用需求选择最优化等离子条件。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS在正常操作条件下,等离子气消耗量小于9L/min。
等离子体超乎寻常的强劲稳健
最低的分析成本
接口锥后配备不少于2个独立工作的提取透镜
专利的碰撞反应池iCRC
集成式碰撞反应池iCRC—独特的干扰消除系统使用简单的气体—氦气和氢气,即可高效、简洁、快速的消除ICP-MS 分析中遇到的质谱干扰。可以根据样品基体的不同选择使用两种气体以提高分析数据的准确性。专利的BOOST技术可在使用碰撞反应气的模式下保证待测分析元素的灵敏度和检出限不受影响。
高效去除质谱干扰确保分析结果的准确性
不同模式下快速切换,确保分析效率
针对复杂基体的样品具有出色的长期稳定性
高通量快速分析的保证– ReflexION
PlasmaQuant MS的高灵敏度不仅获得了业内最佳检出限,并在保证分析结果的精密度和重复性的前提下显著缩短分析时间。PlasmaQuant MS高灵敏度的获得主要得益于专利的ReflexION 离子光学系统,实现了对离子束真正意义上的90°反射偏转和3D聚焦。ReflexION 离子光学系统通过抛物面静电场对离子束进行90°反射偏转的同时,不同大小和动能的待分析离子被聚焦在四极杆质量分析器入口。确保在全质量数范围内待分析离子最高的灵敏度及信号值。光子、中性粒子及颗粒穿过抛物面静电场后被真空系统移出质谱仪。
离子束被反射并在四极杆质量分析器入口处聚焦获得业内最高分析灵敏度
光子、中性粒子及颗粒未进入四级杆,获得极低的背景噪声
离子束全三维控制,优化简单